第341章 极紫外光刻曝光光学系统（3 / 3）

林宇眼神坚定地说道，他的拳头不自觉地握紧，仿佛在给自己加油打气，“虽然前方的道路充满荆棘，但我们有信心开辟出一条属于自己的道路。”

经过无数个日夜的艰苦努力和反复试验，科研团队终于在光源技术方面取得了一项重要的突破。他们成功地开发出了一种新型的激光等离子体极紫外光源，其功率相比以往提高了数倍，稳定性也得到了显着的提升。这就像是在黑暗中点亮了一盏明灯，为整个极紫外光刻项目带来了新的希望。

“太棒了！我们终于成功了！”孙博士激动地欢呼起来，他的脸上洋溢着成功的喜悦，眼中闪烁着激动的泪花，“这是我们团队共同努力的结果，也是我国在极紫外光刻光源技术领域的一个重要里程碑。”

林宇也难掩心中的兴奋与激动，他与孙博士紧紧地拥抱在一起，感慨地说：“这只是我们迈向成功的关键一步，但还有很长的路要走。我们要继续努力，不断优化和完善这项技术，让它能够真正应用于芯片制造领域。”

随着光源技术的突破，科研团队在光学系统的整体性能优化方面也取得了一系列重要的进展。通过对光路设计的进一步优化和对光学元件的精细调整，极紫外光刻曝光光学系统的分辨率得到了大幅提升，已经能够达到国际先进水平的边缘。这就像是一把原本略显钝拙的手术刀，经过精心打磨后变得锋利无比，能够在芯片制造的微观世界中进行更加精细的“雕刻”。

内部的技术研讨会上，林宇充满信心地向团队成员展示了最新的研究成果：“经过大家的不懈努力，我们的极紫外光刻曝光光学系统已经取得了显着的成绩，就像我们已经搭建好了一座通往成功的桥梁，接下来需要做的就是让车辆在这座桥上安全、快速地行驶。”

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